Deposição de TiN em substrato de Ti: comparação entre as técnicas cátodo oco e gaiola catódica
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Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia do Piauí
Resumo
Os processos de deposição por plasma vêm sendo utilizado nas aplicações industriais
e tecnológicas em larga escala por apresentar uma melhora nas propriedades mecânicas,
ópticas, elétricas, dentre outras. Os métodos de deposição com cátodo oco e via gaiola
catódica vêm demonstrando bastante vantagens em relação aos processos convencionais,
como por exemplo, a redução e supressão dos anéis provocados pelo efeito de borda. No
presente trabalho, estudou-se superfícies de titânio comercialmente puro (Grau II),
modificadas pela deposição de nitreto de titânio em sua superfície alterando a variável tempo,
com a finalidade de obter uma otimização da superfície para aplicações tecnológicas,
avaliando de forma geral qual o tratamento mostrou melhores resultados sob o substrato. As
amostras foram caracterizadas através da técnica de Espectroscopia Raman. Observou-se que
todas as amostras expostas ao tratamento foram modificadas (Com exceção das amostras
CO120, CO240, GC120 e GC240 que apresentaram presença de fuligem impossibilitando a
caracterização) em relação à amostra padrão (sem tratamento), apresentando a presença de
TiN, constatadas no Raman. Através de análises comprovou-se que os filmes depositados via
técnica de gaiola catódica são mais homogêneos, já nas amostras revestidas via cátodo oco
existe uma variação da razão de TiN ao longo da amostra provocada pelo efeito de borda
mostrando heterogeneidade provando assim que a melhor técnica a ser utilizada é a de
deposição via Gaiola Catódica.
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Keywords
Deposição de filmes finos, Plasma, Gaiola catódica, Cátodo oco e Nitreto de Titânio