Deposição a plasma de nitreto de titânio: análise comparativa das técnicas cátodo oco e gaiola catódica
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Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia do Piauí
Resumo
A deposição de filmes finos pelo método de deposição física de vapor (DFV) por plasma é largamente estudado para aplicações tecnológicas visando à utilização industrial em larga escala. A deposição de filmes finos, desperta interesses por apresentar melhorias nas propriedades mecânicas, ópticas, elétricas, tribológicas, dentre outras. Os métodos de deposição por sputtering reativo utilizando as técnicas do cátodo oco e gaiola catódica vem apresentando bastantes vantagens em relação aos processos convencionais, como por exemplo, o menor custo no revestimento por necessitar de um sistema relativamente simples. Com o objetivo de estudar superfícies de titânio comercialmente puro (Grau II), revestidas pelo nitreto de titânio através das técnicas de cátodo oco e gaiola catódica, alterando a variável tempo de deposição, avaliou-se de forma geral qual tratamento apresentou melhores performance na deposição sob o substrato. As amostras foram caracterizadas através das técnicas tais como: Espectroscopia Raman, Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV), Espectroscopia de Energia Dispersiva (EDS) e medida de Rugosidade. Com base nestes resultados, foram avaliadas propriedades do tratamento como a topografia, a presença de elementos intersticiais, rugosidade, homogeneidade e a uniformidade da camada depositada, com a finalidade de se definir qual o melhor método de deposição. Verificou-se que o tratamento em gaiola catódica, apesar de apresentar maiores valores de rugosidade entre as amostras tratadas, foi o que apresentou maior sucesso no revestimento do substrato, apresentando melhores condições para a obtenção de revestimentos de TiN de melhor qualidade.
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Keywords
Deposição de filmes finos, Plasma, Gaiola catódica, Cátodo oco, Nitreto de titânio