Deposição de dióxido de titânio (TiO2) em aço duplex por gaiola catódica: influência H2/Ar
Loading...
Date
Authors
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia do Piauí
Resumo
Este trabalho visou depositar filmes finos de dióxido de titânio (TiO2) em substrato de aço inoxidável duplex através da técnica de deposição em gaiola catódica. A escolha dessa técnica foi motivada por possibilitar tratamento superficial em temperatura mais baixa e eliminar defeitos que ocorrem frequentemente em altas temperaturas nesse processo, bem como, revestir uma grande variedade de substratos. Na produção do filme se utilizou uma gaiola de titânio como alvo que foi posta numa câmara de plasma de tensão contínua DC e no interior da gaiola foi colocado o substrato de aço inoxidável duplex. A temperatura de tratamento foi mantida constante a 450°C para que se pudesse avaliar a influência da atmosfera (H2/Ar) no processo de produção do filme. Para a caracterização do filme de TiO2 foi utilizado a espectroscopia Raman e a difração de raios X em ângulo rasante além de ensaios de corrosão. Os resultados indicaram que proporção entre H2/Ar afetam a cristalinidade e a capacidade protetiva do filme dentre outras.
Description
Keywords
Deposição, Gaiola catódica, Filme fino
Citation
LOPES, Rudy Falcão. Deposição de dióxido de titânio (TiO2) em aço duplex por gaiola catódica: influência H2/Ar. Orientador: Prof. Dr. Rômulo Ribeiro Magalhães de Sousa. 2015. 77 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia de Materiais) - Instituto Federal do Piauí, Campus Teresina Central, Teresina, 2015.