BIA - IFPI Campus Teresina Central Licenciatura Licenciatura em Química - Teresina Central
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Tipo: Dissertação
Título: Deposição de dióxido de titânio (TiO2) em aço duplex por gaiola catódica: influência H2/Ar
Autor: Lopes, Rudy Falcão
Orientador(a): Sousa, Rômulo Ribeiro Magalhães de
metadata.dc.contributor.advisor-co1: Santos, Francisco Eronir Paz dos
metadata.dc.contributor.referee1: Sousa, Rômulo Ribeiro Magalhães de
metadata.dc.contributor.referee2: Batista, Eutrópio Vieira
metadata.dc.contributor.referee3: Matos, José Milton Elias de
Resumo: Este trabalho visou depositar filmes finos de dióxido de titânio (TiO2) em substrato de aço inoxidável duplex através da técnica de deposição em gaiola catódica. A escolha dessa técnica foi motivada por possibilitar tratamento superficial em temperatura mais baixa e eliminar defeitos que ocorrem frequentemente em altas temperaturas nesse processo, bem como, revestir uma grande variedade de substratos. Na produção do filme se utilizou uma gaiola de titânio como alvo que foi posta numa câmara de plasma de tensão contínua DC e no interior da gaiola foi colocado o substrato de aço inoxidável duplex. A temperatura de tratamento foi mantida constante a 450°C para que se pudesse avaliar a influência da atmosfera (H2/Ar) no processo de produção do filme. Para a caracterização do filme de TiO2 foi utilizado a espectroscopia Raman e a difração de raios X em ângulo rasante além de ensaios de corrosão. Os resultados indicaram que proporção entre H2/Ar afetam a cristalinidade e a capacidade protetiva do filme dentre outras.
Abstract: This study aimed to deposit thin films of titanium dioxide (TiO2) in duplex stainless steel substrate by cathodic deposition technique cage. The choice was motivated by this technique possible surface treatment at a lower temperature and eliminates defects that occur often at high temperatures in this process as well, coating a large variety of substrates. In the production of the film was used as a cage titanium target was set in a continuous voltage DC plasma chamber and the interior of the cage was placed duplex stainless steel substrate. The treatment temperature was held constant at 450°C so that it could evaluate the influence of the atmosphere (H2/Ar) in the film production process. For the characterization of the TiO2 film was used Raman spectroscopy and X-ray diffraction grazing angle in addition to corrosion tests. The results indicated that ratio H2/Ar affect the crystallinity and protective capacity of the film among others.
Palavras-chave: Deposição
Gaiola catódica
Filme fino
Cnpq: CNPQ::ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA
metadata.dc.language: por
País: Brasil
Editor: Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia do Piauí
Sigla: IFPI
Unidade: Campus Teresina Central
metadata.dc.publisher.program: PPGM
Citação: LOPES, Rudy Falcão. Deposição de dióxido de titânio (TiO2) em aço duplex por gaiola catódica: influência H2/Ar. Orientador: Prof. Dr. Rômulo Ribeiro Magalhães de Sousa. 2015. 77 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia de Materiais) - Instituto Federal do Piauí, Campus Teresina Central, Teresina, 2015.
Tipo de acesso: Acesso Aberto
URI: https://bia.ifpi.edu.br/jspui/handle/123456789/380
Data do documento: 2015
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